Các nhà nghiên cứu từ Nhật Bản khám phá các thuộc tính phân tử giúp lấp đầy khoảng trống có kích thước nanomet tỷ lệ kèo góc nhà cái khuôn nano cho in thạch bản nano cực tím

Ultraviolet Nanoimprint Litoography (UV-NIL) là một phương pháp tạo ra các mẫu ở nano với các ứng dụng độ rộng tỷ lệ kèo góc nhà cái quang điện tử, quang tử và sinh học do chi phí và mở rộng thấp Tuy nhiên, độ phân giải UV-NIL hiện tại bị giới hạn dưới 10nm và độ phân giải cao hơn đòi hỏi phải hiểu rõ hơn về quy trình UV-NIL tỷ lệ kèo góc nhà cái một nghiên cứu mới, các nhà nghiên cứu từ Đại học Khoa học Tokyo, Nhật Bản sử dụng các mô phỏng để tiết lộ các thuộc tính phân tử cần thiết cho việc tạo mẫu UV-NIL tốt ở độ phân giải cao hơn

tỷ lệ kèo góc nhà cái khoa học hiện đại, Nanopatterning là một kỹ thuật thiết yếu để chế tạo các thiết bị nhỏ gọn cho các ứng dụng điện tử, quang học, quang tử và sinh học Về vấn đề này, Infravography Ultraviolet Nanoimprint (UV-NIL) cho thấy nhiều hứa hẹn do chi phí và khả năng mở rộng thấp của nó
Công nghệ dựa trên việc tạo ra các nano bằng ánh sáng tia cực tím trên vật liệu nhạy cảm với ánh sáng gọi là "chống lại" lắng đọng trên chất nền Sau khi đặt điện trở trên chất nền, một nano nano khuôn được ép vào nó Điện trở lấp đầy khuôn này và sau đó được chữa khỏi bằng ánh sáng UV, tạo ra nano mong muốn

tỷ lệ kèo góc nhà cái khi UV-NIL là một kỹ thuật được khám phá tốt, với các mô phỏng cung cấp những hiểu biết sâu sắc về quy trình, nó vẫn bị giới hạn ở các độ phân giải dưới 10nm Điều này là do độ phân giải dưới 10nm đòi hỏi sự hiểu biết về các tính năng vật liệu ở thang đo nguyên tử Thật không may, tính năng đó không thể được khám phá bằng các mô phỏng truyền thống, cho rằng vấn đề là liên tục
tỷ lệ kèo góc nhà cái khi các nghiên cứu trước đây đã xem xét các hiệu ứng kích thước polymer trên UV-NIL, các hành vi của các phân tử kháng chuỗi ngắn tỷ lệ kèo góc nhà cái quá trình làm đầy vẫn chưa rõ ràng

Để giải quyết vấn đề này, một nhóm nghiên cứu do Phó giáo sư Tadashi Ando từ Đại học Khoa học Tokyo (TUS), Nhật Bản dẫn đầu, đã thực hiện mô phỏng động lực phân tử (MD) để làm sáng tỏ các đặc điểm phân tử chi phối quá trình lấp đầy tại nancales tỷ lệ kèo góc nhà cái họNghiên cứu được xuất bản vào ngày 25 tháng 7 năm 2022, tỷ lệ kèo góc nhà cáiNanom vật liệu, Tiến sĩ Ando và đồng nghiệp của ông đã mô phỏng quá trình lấp đầy các rãnh mốc 2-NM và 3-NM cho bốn loại chống lại khác nhau, cụ thể là N-Vinyl-2-Pyrrolidone (NVP), 1,6-Hexanediol Triacrylate (TMPTA) và 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone (DMPA) tỷ lệ kèo góc nhà cái số này, HDDA, NVP, TPGDA và TMPTA là photopolyme tỷ lệ kèo góc nhà cái khi DMPA là một bộ khởi tạo trùng hợp Cụ thể, nhóm đã khám phá các tác động của các tác phẩm và độ nhớt của các phân tử này đối với quá trình điền UV-NIL

3472_3683Làm nổi bật Tiến sĩ Ando Đặc biệt, các phân tử có độ nhớt cao hơn 92 MPas không thể lấp đầy các rãnh Ngoài ra, các nhà nghiên cứu đã so sánh hai photopolyme hình tuyến tính, HDDA và TPGDA Các mô phỏng cho thấy TPGDA tương đối linh hoạt hơn, khiến nó có nhiều khả năng trải qua liên kết chéo nội phân tử tỷ lệ kèo góc nhà cái quá trình xử lý UV Hơn nữa, các kết quả mô phỏng này phù hợp tốt với các quy tắc thực nghiệm có nguồn gốc từ các thí nghiệm

Với những hiểu biết đáng chú ý này, các nhà nghiên cứu rất hào hứng với triển vọng tương lai của UV-Nil"Những phát hiện của nghiên cứu của chúng tôi có thể cung cấp cho chúng tôi thông tin hữu ích để hướng dẫn lựa chọn và thiết kế các điện trở được tối ưu hóa tỷ lệ kèo góc nhà cái tương lai để có độ phân giải nano tốt ở độ phân giải dưới 10nm với UV-NIL,"nói Tiến sĩ Ando, ​​phấn khích

Chúng tôi chắc chắn hy vọng tầm nhìn của anh ấy sẽ sớm nhận ra!

Tiêu đề hình ảnh: Mô phỏng quá trình lấp đầy vật liệu kháng tỷ lệ kèo góc nhà cái bản in thạch bản UV nanoimprint

Chú thích hình ảnh: tỷ lệ kèo góc nhà cái một nghiên cứu mới, các nhà nghiên cứu từ TUS, Nhật Bản, sử dụng các mô phỏng động lực học phân tử để hiểu các đặc điểm phân tử của các vật liệu chống lại việc lấp đầy các rãnh có kích thước nanomet tỷ lệ kèo góc nhà cái khuôn mẫu nano được sử dụng tỷ lệ kèo góc nhà cái chữ UV nanoimprint

Tín dụng hình ảnh: Phó giáo sư Tadashi Ando từ Đại học Khoa học Tokyo

Loại giấy phép: CC bằng 40

Liên kết hình ảnh:https: //wwwmdpicom/2079-4991/12/15/2554

tham chiếu

Tiêu đề của giấy gốc	:	6061_6165
Tạp chí	:	nanom vật liệu
doi	:	103390/nano12152554

Về Đại học Khoa học Tokyo

tỷ lệ kèo góc nhà cái Đại(TUS) là một trường đại học nổi tiếng và được kính trọng, và là trường đại học nghiên cứu tư nhân chuyên khoa khoa học lớn nhất ở Nhật Bản, với bốn cơ sở ở trung tâm Tokyo và vùng ngoại ô của nó và ở Hokkaido Được thành lập vào năm 1881, trường đại học đã liên tục đóng góp cho sự phát triển của Nhật Bản tỷ lệ kèo góc nhà cái khoa học thông qua việc khắc sâu tình yêu đối với khoa học tỷ lệ kèo góc nhà cái các nhà nghiên cứu, kỹ thuật viên và nhà giáo dục

Với sứ mệnh "tạo ra khoa học và công nghệ cho sự phát triển hài hòa của thiên nhiên, con người và xã hội", TUS đã thực hiện một loạt các nghiên cứu từ khoa học cơ bản đến ứng dụng TUS đã chấp nhận một cách tiếp cận đa ngành để nghiên cứu và thực hiện nghiên cứu chuyên sâu tỷ lệ kèo góc nhà cái góc nhà cái một số lĩnh vực quan trọng nhất hiện nay TUS là một công đức nơi tốt nhất tỷ lệ kèo góc nhà cái góc nhà cái khoa học được công nhận và chăm sóc Đây là trường đại học tư duy nhất ở Nhật Bản đã sản xuất một người chiến thắng giải thưởng Nobel và là trường đại học tư duy nhất ở châu Á sản xuất những người chiến thắng giải thưởng Nobel tỷ lệ kèo góc nhà cái góc nhà cái lĩnh vực Khoa học Tự nhiên